Capstone Designmesse

Capstone Designmesse

From April 23, 2024 until April 23, 2024

Am Atlanta – Georgia Institute of Technology, Georgia, USA

Gepostet von Canton Fair Net

https://www.capstone.gatech.edu/expo/

Kategorien: IT & Technik, Bildung und Schulungen, Industrieprodukte

Stichworte: Design

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Capstone Design Expo – Capstone Design

Capstone Design Expo. Abonnieren Sie, um Benachrichtigungen über zukünftige Messen zu erhalten. Georgia Institute of Technology.

Capstone Design ExpoDie Frühjahrsmesse 2024 findet am Dienstag, den 23. April 2024 statt. Bitte verwenden Sie diesen Link, um sich als Juror oder Teilnehmer zu registrieren: https://capstone.gatech.edu/expo/register-------- -----------------------------------Die Capstone Design Expo ist eine Präsentation der Absolventen der Oberstufe der Georgia Tech stellen ihre innovativen Projekte vor, die im Capstone Design Course entworfen und gebaut wurden. Studenten arbeiten zusammen, um ein industrielles Problem zu lösen, innovative Werkzeuge für Forscher zu entwickeln oder ihre unternehmerischen Ideen zu entwickeln. In der Vergangenheit haben unsere Sponsoren Projekte gesehen, die erhebliche Vorteile gebracht haben. Einige haben mehr als eine Million Dollar an Forschungs- und Entwicklungskosten eingespart. Studierende können bei potenziellen Arbeitgebern einen guten ersten Eindruck hinterlassen. Einige haben sogar eine Einladung von unseren Sponsoren erhalten, uns zu besuchen und über eine mögliche Arbeitsmöglichkeit zu sprechen. Frühere MesseprojekteBitte kontaktieren Sie uns für weitere Informationen: Nichelle ComptonCapstone Design Expo [E-Mail geschützt] um Updates zu zukünftigen Messen zu erhalten* Gibt an, ob Vorname Nachname E-Mail-Adresse erforderlich ist *Unternehmen/OrganisationEntfernen Sie es nicht, da sonst die Gefahr besteht, dass Bots sich anmelden.

Die Frühjahrsmesse 2024 findet am Dienstag, den 23. April 2024 statt. Bitte verwenden Sie diesen Link, um sich als Juror oder Teilnehmer zu registrieren: https://capstone.gatech.edu/expo/register.